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近日,活细胞结构与功能成像等线站工程暨上海软X射线自由电子激光装置调试工作连续取得突破性进展。继实现532米X射线自由电子激光装置的全线调试贯通、带光运行后,该装置于6月21日凌晨首次在100飞秒(1飞秒=1秒的千万亿分之一)时间内实现了2.4纳米单发激光脉冲的相干衍射成像,获得了首批实验数据,并完成了对衍射图样的快速图像重建。这一成果因体现了活细胞结构与功能成像等线站工程暨上海软X射线自由电子激...
近日,活细胞结构与功能成像等线站工程暨上海软X射线自由电子激光装置调试工作取得系列进展。继实现532米X射线自由电子激光装置的全线调试贯通、带光运行后,装置于6月21日凌晨首次实现了2.4纳米单发激光脉冲的相干衍射成像,获得了首批实验数据,并完成了对衍射图样的快速图像重建。该成果体现了活细胞结构与功能成像等线站工程暨上海软X射线自由电子激光装置整体性能的先进性,标志着我国在软X射线自由电子激光研制...
近日,中国科学院上海高等研究院和中国科学院上海应用物理研究所自由电子激光团队在外种子自由电子激光方面取得重要进展,理论提出了一种相干能量调制的自放大机制,并且基于上海软X射线自由电子激光装置(SXFEL),完成了实验验证。研究表明,这种新机制可以极大降低外种子自由电子激光对外种子激光的功率需求,解决了外种子自由电子激光通往高重复频率运行的关键问题。相关成果以“Self-Amplification ...
上海软X射线自由电子激光装置(Shanghai Soft X-ray Free Electron Laser, SXFEL)需1个分辨率达到亚μm量级的束流位置测量系统,并采用基于束流准直的方法实现波荡器段电子束与光子束的紧密重合。为此设计研制了1个由C波段腔式探头、单路混频至低中频的射频前端以及自主研发的专用数字信号束流位置处理器(digital beam position monitor pr...
提出并设计了一种旨在获得大动态范围的软X射线扫描变像管.该管型在保证大的阴极有效使用面积的情况下,通过减小电子的渡越时间来减小空间电荷效应对扫描变像管性能的影响,从而改善扫描变像管的动态范围.借助于YAG皮秒激光器对其性能进行了实验评价,获得了时间分辨率优于31 ps和动态范围大于922的结果.
为优化软X射线聚束透镜设计参数,使之与等离子体辐射源组合来获得洁净的高功率密度宽能带的软X光束,在西北核技术研究所的强光一号加速器装置上,对高功率密度的软X射线(6×106~1.5×107 W/cm2)在X光导管中的传输特性进行研究。研究结果表明:对于DM308型号玻璃材料拉制成的X光导管,在该功率密度范围内,软X射线在X光导管中的传输没有出现非线性效应,随着入射软X射线功率密度的提高,出射软X射...
提出了一种单发实验测量软X射线波段多层膜反射镜反射特性的简易方法。实验采用激光等离子体软X射线源作为光源,用平焦场光栅谱仪分光,在光路中引入掠入射镜以消除高级次谱的影响,用软X光CCD记录,在一发激光打靶实验中,测量了设计中心波长为13.9 nm的Mo/Si多层膜反射镜的反射特性。
给出了用于软X射线投影光刻的激光等离子体源靶材的选择依据。计算了类锂氧离子的辐射跃迁波长和相应的跃迁速率值。并通过与常规金属靶的比较, 给出了实验靶的一些特性。
详细研究了类钠铜离子激光等离子体中的各种复合过程,并从理论上描述了类钠铜离子软X射线激光的低温三体复合泵浦机制。
利用直流磁控溅射方法制备了质量厚度为200 μg·cm-2,直径为20 mm的自支撑金属Zr滤光膜。用同步辐射光源和紫外可见分光光度计分别测量了滤光膜在软X射线和可见光波段的透射率,用俄歇电子能谱(AES)分析了膜中的元素含量。结果表明:Zr膜在13.9 nm波长的透射率达19%, 对可见光的抑制性能达43 dB。杂质、膜层氧化及表面污染是影响滤光膜软X射线光谱透射率的主要因素。
用数值模拟程序计算了脉宽1.5ps预脉冲和主脉冲激光,经1.2ns的时间延迟先后泵浦喷射的密度为6.632×10-3g/cm3的氩气柱,以获得高增益的类氖离子电子碰撞激发3p-3s跃迁激光的可能性。结果表明:在等离子体中能够形成宽的类氖离子丰度大于50%的区域,并且具有大于1020 cm-3的自由电子密度。主脉冲到达之后迅速加热自由电子,高密度的自由电子与类氖离子碰撞激发形成具有很高增益系数的增益...
介绍了掠入射高分辨平焦场HIREFS(High Resolution Erect Field Spectrometer)谱仪的主要结构和性能。采用预脉冲实验技术,使用该谱仪对线聚焦条件下钛靶的轴向空间分辨谱进行了研究,得到了类氖钛32.6nm软X射线激光强线的空间分布信息。
基于分束镜反射率和透射率的乘积为衡量标准的原则,设计了13.9nm软X射线激光干涉测量所需的多层膜分束镜,用磁控溅射法在有效面积达10mm×10mm,厚100nm的氮化硅窗口上镀制Mo/Si多层膜,实现了分束镜制作。用表面轮廓仪实测分束镜面形精度达到nm量级,同步辐射反射率计测试表明,分束镜的反射率和透射率乘积约4%。

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