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无抖动ICF冷冻靶干涉图像的获取
干涉图像 抖动 投影
2010/2/21
提出一种克服由于冷冻靶制冷系统和真空系统工作时引起的振动所带来的干涉图像抖动的方法。通过两个完全相同的CCD同步捕获冷冻靶干涉图像和空间位置图像，以位置图像来标定冷冻靶的振动情况，从而获得冷冻靶在不同状态下的干涉图像。在标定冷冻靶位置的过程中，提出了频率估计、投影标定、特征匹配和全匹配这4种算法，并给出了对应的数字图像处理算法流程。
ICF靶材料和靶制备技术研究进展
惯性约束聚变 ICF靶材料 ICF靶工艺
2009/8/24
主要介绍了中国工程物理研究院ICF靶材料科学与靶制备技术在材料研究、靶丸制备技术、薄膜制备技术、精密微工艺及靶参数测量等方面的主要研究进展。在靶材料研究方面，近年相继研制成功全氘代聚苯乙烯（D-PS）有机材料、微靶掺杂和激光吸收与X射线转换金属纳米或团簇材料；探索了新型有机气凝胶储氢材料，开展了金属小团簇理论研究和纳米金属复合材料的研究工作。在靶制备技术与工艺方面，完成了PS单层、双层和三层塑料空...
ICF流体力学不稳定性实验中调制传递函数的测量
ICF 流体力学不稳定性 调制传递函数 线扩散函数
2009/8/24
在流体力学不稳定性实验中，实际X光强度分布经过成像系统后会发生改变。要准确得到实际的光强分布，必须对系统的调制传递函数进行精确地测量。通过对刀口图像分析得到了系统的线扩散函数，再对其进行傅里叶变换得到调制传递函数，最后通过维纳滤波和约束最小二乘方滤波两种方法对图像进行了重建，得到比较清晰的边界情况和图像轮廓。
ICF平面低温冷冻靶系统的初步设计及应用
惯性约束聚变 冷冻靶 G-制冷机
2009/8/24
利用Gifford-McMahon（G-M）制冷机提供低温源，研制了平面低温冷冻靶系统。该系统最低温度可以达到10 K，制冷功率随温度降低而降低，制冷速率可控。其中，在18.6 K其制冷功率可以达到6.5 W；在14 K其制冷功率为3 W。利用该系统，初步开展了氩、氢的冷冻实验，并研究了温度对激光惯性约束聚变靶丸结构的影响。获得了氩、氢平面低温冷冻靶，并观察到了低温诱导聚变靶丸形变现象。
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激光拉曼散射测量ICF靶丸燃料含量
惯性约束聚变 拉曼散射 塑料靶丸
2009/8/21
提出了一种基于显微激光拉曼散射的惯性约束聚变塑料靶丸非放射性燃料气体含量的测量方法，该方法克服了过去不能直接对氘气进行非破坏测量的困难，可以显著提高测量效率与精度，通过标定可以方便应用于打靶零时刻的燃料总量监测。由于入射光与散射光都需要透过微球材料，因此，球壳材料性能特点就会对测量结果产生显著影响，针对微球材料的荧光波长、激光波长和功率以及探测系统光栅性能等因素进行了详细考察与讨论，给出了确切测试...
热处理温度对化学镀磁性ICF玻璃靶丸特性的影响
惯性约束聚变 玻璃靶丸 化学镀
2009/8/21
在300，700和1 000 ℃温度下,对化学镀Ni-P合金涂层后的磁性ICF玻璃靶丸进行热处理，通过X射线衍射仪（XRD）、扫描电子显微镜（SEM）和振动样品磁强计（VSM）对热处理后化学镀ICF玻璃靶丸的结构、形貌和磁性能进行了表征。结果表明：化学镀ICF玻璃靶丸经过热处理后，Ni-P涂层晶化为晶态合金层，涂层的组成颗粒直径和磁性能随着热处理温度的升高而不断增加，可望用于磁悬浮实验研究。
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相移干涉法测量ICF微球内表面粗糙度
相移干涉 ICF微球 内表面粗糙度
2009/8/21
通过分析光线通过微球壳层后各界面的相位分布，讨论了相移干涉法测量微球内表面粗糙度的基本原理，研究了微球上部壳层对内表面粗糙度测量的影响，得到了聚苯乙烯，聚a甲基苯乙烯微球的内表面形貌特征图像，测量数据与原子力显微镜测量数据在同一量级。以微球壳层对超光滑碳化硅及单晶硅片表面形貌的调制作用为研究对象，讨论了微球的外表面粗糙度以及微球壁厚对内表面粗糙度测量结果的影响，确定了相移干涉法测量微球内表面粗糙度...
一种ICF靶用智能靶涂层的结构和性能表征
ICF靶 智能靶涂层 合成
2009/8/21
合成了一种材料N,N′-二苯并咪唑-苝二酰亚胺(PV)，经多次真空升华提纯，产率为68%，纯度达95%以上。利用傅里叶变换红外光谱（FTIR）、紫外/可见吸收光谱（UV/Vis）、元素分析、热失重分析（TG）对该产物的结构和性能进行了表征。结果表明:苝四甲酸二酐（PTCDA）与邻苯二胺反应，易转化成二苯并咪唑苝类衍生物。该PV材料在450～750 nm范围内有两个强的吸收峰，其初始热分解温度约为5...
为了提高ICF精密制靶的质量，提出用微波等离子体（MP）技术，包括等离子体薄膜制备、等离子体反应性离子束刻蚀、聚焦离子束刻蚀、掺杂纳米金属粉末制备和掺杂纳米金属粉末的表面包覆改性等技术，去加以改进和解决。此方法与其它成膜技术相结合，在ICF精密制靶中得到广泛应用。
脉冲激光气相沉积技术及其在ICF薄膜靶制备中的应用
脉冲激光气相沉积 ICF 靶制备
2008/4/30
在ICF实验及天体物理的辐射不透明实验中，经常用到多层薄膜靶，激光脉冲气相沉积（PLD）技术是制备多层薄膜靶的较好方法。论述了PLD技术的原理、实验方法和装置的设计，用该方法初步制备了原子级光滑的Cu及Cu/ Fe薄膜。Cu薄膜的均方根粗糙度为0.2nm，Fe薄膜的均方根粗糙度为0.4nm。