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图案化金属铜膜的SIAD法自组装制备
图案化金属铜膜 小入射角沉积(SIAD) 定向压应力 层-线状生长 自组装制备
2013/8/7
利用新发展的小入射角沉积(SIAD)技术在玻璃衬底上自组装制备了图案化金属铜膜. 利用金相显微镜(MM)、扫描电子显微镜(SEM)、透射电子显微镜(TEM)/选区电子衍射(SAED)/能量弥散X射线光谱仪(EDX)以及X射线衍射仪(XRD)等技术对所制备的图案化金属铜膜进行了表征. 通过分析对比SIAD和垂直入射沉积(NID)铜沉积物的形貌和结构差异, 揭示了图案化金属铜膜的形成机理.
熔石英表面铜膜污染物诱导损伤实验研究
熔石英 污染物 铜膜 表面损伤
2009/8/21
在熔石英元件表面溅射一层厚度小于10 nm的金属铜膜污染物，并测试元件的透过率。测试355 nm熔石英元件的激光损伤阈值，并用光学显微镜观测损伤形态。实验结果表明：污染后的熔石英元件的损伤阈值降低20%左右，元件表面的金属污染物薄膜经强激光辐照，在熔石英表面形成很多坑状微损伤，分布不均的热应力导致表面起伏，并有明显的烧蚀现象，导致基底损伤阈值下降。建立的光吸收和热沉积传输模型初步解释污染物膜层导致...